（原标题：一种新型光刻技术魔投网，突破EUV极限）
如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~
来源：内容编译自eenewseurope，谢谢。
据报道，初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表面发射的原子来定义特征，其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。
Lace Litho 所称的 BEUV 理论上可以实现更精细的特征，支持晶体管的持续小型化并延伸摩尔定律。
该公司由卑尔根大学首席执行官 Bodil Holst 教授和首席技术官 Adria Salvador Palau 于 2023 年 7 月共同创立，后者在卑尔根大学获得博士学位，但目前在西班牙巴塞罗那运营。
传统的 EUV 系统使用 13.5nm 波长的光，通过一系列反射镜和掩模在晶圆上形成图案。原子光刻技术能够实现直接无掩模图案化，其分辨率甚至小于受波长限制的 EUV 系统所能达到的分辨率。
该公司在其网站上声称：“通过使用原子代替光，我们为芯片制造商提供了领先当前技术 15 年的功能魔投网，而且成本更低、能耗更低。”
Salvador Palau 和 Holst 教授共同撰写了一篇发表在《物理评论 A》上的论文，题为《利用中性氦原子进行真实尺寸表面映射》。该论文详细介绍了立体氦显微镜的实现和操作。
FabouLACE 是一个由欧盟资助的项目，旨在开发基于色散力掩模的氦原子光刻技术，其预算为 250 万欧元，由欧洲创新委员会提供。该项目启动日期为 2023 年 12 月 1 日，将持续到 2026 年 11 月 30 日。
FabouLACE 采用亚稳态原子和基于色散力的掩模，可实现 2 纳米工艺。欧盟委员会表示，Lace 光刻技术已获授权在 2031 年前将该技术推向市场。与此同时，该技术的性能将由 IMEC 研究机构进行监测和验证。NanoLACE 是欧洲早期的一个研究项目，于 2024 年 12 月 31 日结束。该项目于 2019 年启动，已获得 336 万欧元的资助，其预算为 365 万欧元。
Lace Lithography 于 2023 年 7 月筹集了约 450,000 欧元的种子轮融资，由 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、欧洲创新委员会、挪威创新局和挪威研究委员会提供支持。
https://www.eenewseurope.com/en/lace-lithography-uses-atoms-to-go-beyond-euvl/
半导体精品公众号推荐
专注半导体领域更多原创内容
关注全球半导体产业动向与趋势
*免责声明：本文由作者原创。文章内容系作者个人观点，半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点，不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持，如果有任何异议，欢迎联系半导体行业观察。
今天是《半导体行业观察》为您分享的第4103期内容，欢迎关注。
『半导体第一垂直媒体』
实时 专业 原创 深度
公众号ID：icbank
喜欢我们的内容就点“在看”分享给小伙伴哦魔投网
盈策略提示：文章来自网络，不代表本站观点。
